PENGARUH TEKANAN PARSIAL OKSIGEN TERHADAP KOEFISIEN ABSORPSI LAPISAN TIPIS INDIUM TIN OXIDE (ITO)
ABSTRACT: Proses absorpsi
foton dengan energi
tertentu akan mengeksitasi
elektron darikeadaan energi yang
lebih rendah ke keadaan energi yang lebih tinggi. Untuk menentukankoefisien ini
secara eksperimen terutama
karena adanya pengaruh
interferensi optis daripola-pola
transmitansi dan reflektansi.
Tujuan penelitian ini
adalah untuk menentukanbesarnya absorpsi lapisan tipis
In2O3: SnO2dengan berbagai kadar oksigen yang diberikanpada saat deposisi.
Proses pelapisan dilakukan 90% berat In2O3 dan 10% berat SnO2padasubstrat kaca
dengan cara sputtering. Pada saat sputtering dilakukan penambahan
oksigentertentu yaitu 2,50%,
3,70%, 5,10%, 6,15%
dan 8,90% yang
dilakukan deposisi padatemperature 1750C. Hasil analisis
teramati adanya pergeseran interferensi dan transmitansike arah panjang
gelombang yang lebih pendek sebanding dengan kenaikan kadar oksigen.Pada kadar
oksigen 2,50% dan
3,70% koefisien absorbsi
makin naik, tetapi
pada kadaroksigen 5,10%,
6,15% dan 8,90%
koefisien absorpsi mulai
menurun. Perlakuan kadaroksigen
pada saat deposisi
lapisan tipis ITO
dapat mempengaruhi koefisien
absorpsilapisan tipis yang terbentuk.
Penulis: Muslimin
Kode Jurnal: jpkimiadd120426
