PEMBUATAN LAPISAN TIPIS SnO2 DENGAN METODE SPUTTERING DC UNTUK SENSOR GAS CO
ABSTRAK: Telah dilakukan
pembuatan lapisan tipis SnO2 dengan metode sputtering DC untuk gas CO.
Pembuatan lapisan tipis SnO2 dilakukan
dengan parameter sputtering pada tegangan elektroda 2 kV, arus 10 mA, tekanan
vakum 5 × 10-2 torr, waktu deposisi 30 menit, 60 menit dan 120 menit pada suhu
substrat 250 0C, sedangkan gas
sputtering adalah gas argon. Hasil eksperimen menunjukkan bahwa lapisan tipis
SnO2 yang dideposisi dengan parameter sputtering : tegangan 2 kV, arus 10 mA,
tekanan 5 × 10-2 Torr, waktu 120 menit dan suhu 250 °C mempunyai sensitivitas
optimun 23 % untuk mendeteksi gas CO pada konsentrasi 106,25 ppm. Kemudian dari
hasil analisis unsur lapisan SnO2 pada kondisi optimum menggunakan SEM–EDS
diperoleh Sn sebesar 31,73%, O sebesar 67,37 % atom.
Penulis: Sayono, Suprapto,
Sunardi
Kode Jurnal: jpkimiadd060096