PENGARUH ALIRAN GAS NITROGEN PADA KARAKTERISTIK LISTRIK FILM GAN YANG DITUMBUHAN DI ATAS SUBSTRAT SILIKON (111) DENGAN TEKNIK SOL GEL SPINCOATING
Abstrak: Film tipis
GaN telah berhasil
ditumbuhkan di atas
substrat Silikon (111)
dengan teknik sol
gel spincoating dengan
variasi aliran gas
nitrogen. Film GaN
telah dikarakterisasi dengan menggunakan difraksi
sinar-X, SEM dan
karakteristik listrik. Hasil
menunjukkan bahwa film memiliki
struktur polikristal sedangkan
dari karakterisasi listrik
yaitu pengukuran resistivitas pada beberapa sampel film GaN
dengan variasi laju aliran gas N2 menunjukan bahwa resistivitas listrik dari
film mengalami penurunan apabila laju aliran gas N2 dinaikan.
Penulis: Yuyu R.Tayubi, Dadi
Rusdiana
Kode Jurnal: jpfisikadd100078