Pengaruh waktu pelapisan nikel pada tembaga dalam pelapisan khrom dekoratif terhadap tingkat kecerahan dan ketebalan lapisan
Abstrak: Elektroplating
merupakan suatu prosespengendapan elektro lapisan logam pada elektrode yang
bertujuan membentuk permukaan dengan sifat atau dimensi yang berbeda dengan
logam dasarnya. Logamyang dilapisi adalah tembaga karena mudah dibentuk menjadi
perhiasan, alatindustri, bagian kendaraan bermotor dan lain sebagainya. Logam
pelapis yang digunakan dalam pelapisan khrom dekoratif ini adalah nikel dan
khrom. Penelitian ini menggunakan spesimen berupa tembaga yang berjumlah 15
buah dengan panjang 60 mm dan diameter 14 mm. Dalam pelaksanaan pelapisan
pertama menggunakan voltase 5 volt, temperatur 600C dan dengan arus
50 ampere. Variasi dilakukan pada waktu pencelupan yaitu 5 menit, 10 menit, 15
menit, 20 menit dan 25 menit dengan tiga kali pengulangan. Sedang pada
pelapisan kedua menggunakan voltase 5 volt, temperatur 500C, arus 50
ampere dan waktu pencelupan 2 menit. Hasil penelitian ini adalah dengan variasi
waktu pelapisan nikel pada tembaga yang dilakukan (dengan range 5 menit-25
menit), nilai iluminasi cahayanya (tingkat kecerahannya) dan ketebalan
lapisannya meningkat, yaitu pada waktu pelapisan nikel 5 menit nilai iluminasi
cahayanya adalah 3297,027 lux dan ketebalannya adalah 14,1 µm hingga pada waktu
pelapisan nikel 20 menit yaitu sebesar 8242,904 lux untuk iluminasi cahayanya
dan hingga waktu pelapisan nikel 25 menit yaitu sebesar 55,77 µm untuk
ketebalan lapisannya. Sedangkan untuk waktu pelapisan nikel 25 menit nilai
iluminasi cahayanya menurun yaitu sebesar 6868,862 lux yang disebabkan karena
banyak lubang pada permukaan lapisan.
Kata kunci: Elektroplating
khrom dekoratif, waktu pelapisan nikel, tingkat kecerahan, ketebalan lapisan
Penulis: I Ketut Suarsana
Kode Jurnal: jptmesindd080090
