Pengaruh Temperatur Deposisi terhadap Struktur dan Sifat Optik Film Tipis ZnO:Al dengan metode DC Magnetron Sputtering
Abstract: Film tipis zinc
oxide doping aluminium (ZnO:Al) telah dideposisikan di atas substrat corning
glass dengan metode DC magnetron sputtering. Penumbuhan dilakukan dengan
memvariasi temperatur deposisi (27°C, 200oC, 300oC, dan 400°C). Analisis X-ray
diffraction (XRD) menunjukkan struktur kristal wurtzite dengan orientasi
sumbu-c. Ukuran butir kristal meningkat dari 35 nm sampai 52 nm. Analisis
scanning electron microscopy (SEM)
menunjukkan bahwa ukuran butir bertambah besar dengan bertambahnya
temperatur deposisi. Peningkatan temperatur deposisi juga menyebabkan
peningkatan nilai transmitansi dari 70% sampai 83% dengan tepi absorpsi pada panjang gelombang sekitar
380 nm.
Penulis: Sugianto, Putut Marwoto, Budi Astuti, Rofiatul
Zannah, Yanti Yanti
Kode Jurnal: jpfisikadd150806
