IMPLANTASI ION YTTRIUM UNTUK MENGHAMBAT LAJU OKSIDASI PADUAN TiAl PADA SUHU 800 °C

ABSTRAK: Paduan TiAl merupakan material yang mempunyai potensi sangat besar sebagai material struktur pada temperatur menengah (600 – 850 °C) untuk industri otomotif dan ruang angkasa, karena mempunyai densitas rendah (3,8 gr/cm3) dan kekuatan mekanik yang tinggi.  Pada kisaran suhu ini terbentuk lapisan nonproteksi yang menyebabkan laju pertumbuhan oksida  yang cepat.  Peningkatan  sifat ketahanan oksidasi suatu material memerlukan rekayasa permukaan karena oksidasi biasanya dimulai dari permukaan.  Dalam penelitian ini telah dilakukan implantasi ion yttrium (Y) pada permukaan paduan TiAl untuk meningkatkan sifat ketahanan oksidasi paduan tersebut.  Dari hasil pengamatan difraksi sinar X pada paduan TiAl menunjukkan bahwa implantasi ion Y menyebabkan terbentuk lapisan Ti4Al43Y6 dan Y3Al2 serta lapisan oksida Y2O3, YTiO3 dan Y2TiO5 yang dapat menghambat difusi oksigen masuk ke permukaan paduan TiAl untuk membentuk lapisan oksida, sehingga mengurangi laju oksidasi paduan TiAl.
Kata kunci: implantasi ion, ketahanan oksidasi, laju oksidasi 
Penulis: Lely Susita R.M., Sayono, BA. Tjipto Sujitno, Slamet Santoso
Kode Jurnal: jpkimiadd090218

Artikel Terkait :