Efek doping Al pada sifat optik dan listrik lapisan tipis ZnO hasil deposisi dengan DC sputtering
Abstrak: Telah dilakukan
deposisi lapisan tipis ZnO didoping Al (ZnO:Al) pada substrat kaca dengan DC
sputtering. Struktur kristal lapisan dikarakterisasi dengan difraksi sinar-X
(XRD). Hasil XRD menunjukkan bahwa lapisan tipis ZnO:Al yang terdeposit pada
substrat kaca adalah polikristal yang terorientasi dengan sumbu-c tegak lurus
pada permukaan substrat. Orientasi kristalografi dipengaruhi oleh suhu substrat
dan konsentrasi doping Al2O3. Sifat optik lapisan diukur dengan
spektrofotometer UV-Visible pada suhu kamar, hasilnya menunjukkan bahwa
transmitansi rata-rata lapisan adalah 85,5% dalam rentang panjang gelombang
(350_1100) nm. Indeks bias lapisan yang diperoleh meningkat dengan bertambahnya
konsentrasi doping Al2O3 dan menurun pada konsentrasi 3%. Sifat listrik lapisan
tipis ZnO:Al ditentukan dengan metode I-V, dan hasilnya menunjukkan bahwa
resistivitas listrik sebesar (108± 4) × 10 "6m telah diperoleh pada
konsentrasi doping Al2O3 2%.
Penulis: Sri Yani Purwaningsih,
Karyono, Sudjatmoko
Kode Jurnal: jpfisikadd050010
