Kajian Variasi Temperatur Annealing dan holding time pada Penumbuhan Lapisan Tipis BaZr0,15Ti0,85O3 dengan Metode Sol-Gel
Abstrak: Kajian ini bertujuan
untuk mengetahui pengaruh variasi temperatur annealing dan holding time (waktu
tahan) terhadap struktur kristal, ukuran partikel, dan ukuran butir lapisan
tipis BaZr0,15Ti0,85O3. Penumbuhan lapisan tipis menggunakan metode Chemical
Solution Deposition (CSD) atau Sol Gel di atas substrat Pt/Si dengan spin
coater. Proses Sol Gel meliputi persiapan sol (koloid), gelation dari sol, dan
penguraian pelarut. Penumbuhan lapisan tipis menggunakan variasi temperatur
annealing 800 dan 900, dan variasi holding time 3 dan 4 jam dengan kecepatan
putar 4000 rpm. Lapisan tipis dikarakterisasi dengan XRD dan dilakukan
penghalusan menggunakan metode Rietveld dengan program GSAS. Ukuran partikel
didapat dengan formula Scherer serta alat SEM untuk mengetahui ukuran butir.
Berdasarkan hasil analisis didapatkan bahwa variasi temperatur annealing dan
holding time mempengaruhi struktur kristal, ukuran partikel, dan ukuran butir
lapisan tipis. Bertambahnya temperatur annealing dan holding time maka
parameter kisi semakin besar dengan a = b 6= c yang berarti memiliki struktur
kristal tertragonal. Ukuran partikel semakin besar seiring dengan bertambahnya
temperatur annealing dan holding time. Namun, ukuran butir tidak berpengaruh
terhadap penambahan temperatur annealing.
Penulis: S. Hadiati, A.H.
Ramelan, V.I Variani, M. Hikam, B. Soegijono, D.F. Saputri, dan Y. Iriani
Kode Jurnal: jpfisikadd140122
